展位号:2H25
深圳市矽谷溅射靶材有限公司成立于2007年,主要团队成员来源于资深镀膜工程师,我们深知镀膜靶材的开发和品质对薄膜涂层的意义非常重大,所以我们不断的投入研发新靶材生产设备和极尽苛刻的挑剔新材料应用于靶材。2011年投入第一代真空高温直压设备(HVP),专业生产高纯靶材及合金靶材;2012年投入真空熔炼设备(VIM),专业生产贵金属靶材;2015年自主研发国内第一套靶材真空等离子溶射生产线,更可为客户提供24H靶材特殊定制服务。真空等离子溶射生产线,可生产:铬旋转管靶、硅铝旋转管靶、钛硅旋转管靶、碳化钨管靶、AZO旋转管靶、钼管靶、铌管靶、氧化铌、氧化钛管靶等各种金属陶瓷靶材。真空热压(HVP),可生产:烧结多种高纯难熔金属及合金、陶瓷类靶、钛铝系列、铬及铬合金系列、钨、钼、铌、钽、锆、AZO/GZO/ITO等。基于真空等离子溶射的优越条件,我们生产的靶材拥有行业内最低的氧/氮含量,最高的重复性,最可靠的稳定性。是光学行业、3C电子、装饰五金、半导体电子的第一优选品牌。